國務院總理李強日前簽署國務院令，公布修訂後的《集成電路布圖設計保護條例》（下稱《條例》），自2026年10月15日起施行。
修訂後的《條例》共6章54條，旨在保護集成電路布圖設計專有權，鼓勵集成電路技術創新，促進科學技術發展。修訂內容包括四方面：明確總體要求，貫徹知識產權戰略部署，擴展保護範圍，強調誠實信用；完善申請、審查程序，規制虛假申請，細化材料要求，完善駁回、撤銷程序，增加權利恢復程序；加強專有權保護，明確權利範圍界定標準，加大侵權賠償力度；促進布圖設計運用，加強公共服務，明確獎酬措施，完善轉讓、許可、出質要求，規範共有人權利行使。
《條例》原有版本於2001年4月2日以國務院令第300號公布，今次以2026年7月23日國務院令第842號修訂。焦點條文方面，布圖設計專有權的保護期為10年，自登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算，以較前日期為準；布圖設計自創作完成之日起15年後不再受保護。
《條例》同時訂明，布圖設計自首次商業利用之日起2年內未提出登記申請的，不再予以登記；故意侵犯布圖設計專有權且情節嚴重的，可按實際損失、侵權獲利或許可使用費倍數等方法確定數額的1倍以上5倍以下確定賠償，並包括權利人為制止侵權行為所支付的合理開支。
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